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5/17-21にかけて米国・シャーロットで行われたCLEO2026にて、M2の高橋さんがPZT膜の屈折率のメモリスティブ特性について発表を行いました。

強弾性ドメインエンジニアリングによるPZT膜の剥離・転写プロセスの改良についての卒業生の高橋さんの論文がSmall Struct.に掲載されました。おめでとうございます。

4/13に新入生歓迎BBQを行いました。新たなメンバーとしてB4が3名加わりました。

欠陥ウルツ鉱型Al₂S₃薄膜の成長についての特任助教 小野先生の論文がJ. Ceram. Soc. Jpn.に掲載されました。おめでとうございます。

M1の澤木さんが、1月から3ヶ月間、ドイツのNaMLabで、ハフニア強誘電体薄膜の研究を行いました。

3/26にM2の追いコンを行いました。ご卒業おめでとうございます。

JST-LOTUSプログラムの一環として、インド工科大学ハイデラバード校のKishor Kalitaさんがメンバーに加わりました。

3/15-18にかけて東京科学大学大岡山キャンパスで行われた第73回応用物理学会春季学術講演会にて、M1の高橋さんがµ-Transfer Printing法を用いたPZT転写膜の特性について発表を行いました。

ナノスケール強誘電体のドメイン構造制御とその圧電特性についての記事が書籍「強誘電体研究の新展開」に掲載されました。

11/19-22にかけて韓国・チェジュで行われたK-J Ceramics 39にて、M2の岩崎さんがZr添加CeO₂セラミックスの電歪特性について発表を行いました。